【水知识一千问第375篇】芯片半导体清洗用水要求及设备介绍
随着电子工业的发展，在芯片半导体的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，超纯水也是其中最关键的因素之一。
半导体中的杂质对电阻率的影响非常大。半导体中掺入微量杂质时，杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。
一．半导体芯片清洗超纯水设备水质标准
半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国astm纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、2mω.cm、0.5mω.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
二．半导体清洗超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18mω.cm）
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→edi装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18mω.cm）
3、预处理→一级反渗透→加药机（ph调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→edi装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17mω.cm）
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→edi装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15mω.cm）
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15mω.cm）
三．半导体清洗超纯水设备应用领域
1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
2.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
3.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
4.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
6.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
7.集成电路生产中高纯水清洗硅片
8.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
9.lcd液晶显示屏、pdp等离子显示屏
10.高品质显像管、萤光粉生产
11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
13.实验室和中试车间
14.汽车、家电表面抛光处理
15.光电产品、其他高科技精微产品
超纯水系统总体来说一般可分为三个部分：超纯水制造区（cub部分）、超纯水抛光循环区（fab部分）、超纯水输送管网（fab各使用区）。超纯水管道施工及注意事项明天向大家讲述。
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