电子行业超纯水设备
上海ｅｄｉ设备/cdi超纯水设备工艺流程:
1.新工艺一:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→ro前水泵→精密过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→混床→终端精密过滤→设备用水（水质可以达到16mω.cm以上即0.06μs/㎝以下,25℃）
2.新工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→ro前水泵→精密过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→普通混床→抛光混床→终端精密过滤→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.056μs/㎝以下,25℃）
4.新工艺三:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→ro前水泵→精密过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→edi电去离子主机→终端精密过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到16mω.cm以上即0.062μs/㎝以下,25℃）
5.新工艺四:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→ro前水泵→精密过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→edi电去离子主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端精密过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.055μs/㎝以下,25℃）
5.新工艺五:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→一级ro高压泵→一级ro反渗透系统→ro水箱→二级ro高压泵→二级ro水箱→增压泵→edi(cedi)电去离子水主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端精密过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.055μs/㎝以下,25℃)
更多